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掩膜版

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掩模版又称mask或光罩，分为铬版、干版、菲林、凸版等，bat·365中国建议试用精度高、耐用的铬版。应用干芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版，由表面纯平并带有一层厚约0.1um铬层的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的图形。
0512-87816000
产品详情

bat·365中国微纳提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版，制版最小线宽1.5um，精度0.2um，适配4、6英寸光刻等多种尺寸，满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。提供版图设计服务，根据客户提交的草图，为客户绘制符合芯片要求的版图。

掩膜版1.jpg


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掩模版又称mask或光罩，分为铬版、干版、菲林、凸版等，bat·365中国建议试用精度高、耐用的铬版。应用干芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版，由表面纯平并带有一层厚约0.1um铬层的石英板或玻璃板制作而成，蚀刻后的残留铬部分即为设计的图形。
0512-87816000
光刻
bat·365中国MEMS产线
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bat·365中国微纳提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版，制版最小线宽1.5um，精度0.2um，适配4、6英寸光刻等多种尺寸，满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。提供版图设计服务，根据客户提交的草图，为客户绘制符合芯片要求的版图。

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